半導體行業應用等離子清潔器裝置

半導體行業應用等離子清潔器裝置

CP-Plasner®是一款利用13.56MHz高頻率的等離子體產生裝置。主要領域包括電子顯微鏡等表面觀察技術。這是為了去除附著在分析裝置真空容器內壁上的有機類污染物。

兩項利技術帶來穩定與安心。

采用了已獲得利的氣體流量調節振動器和等離子體點火方法。
在清潔過程中，真空容器內的壓力不會發生波動。
我們會與客戶協商所需處理的藥膜的工藝條件，并選擇最合適的流量調節振動器。

• 由于清潔過程中沒有壓力波動，因此可以生成穩定的等離子體，而RF反射量不會發生變化。

• 從清洗開始到結束均可通過一鍵操作實現。這里沒有任何復雜的操作。

• 清潔條件可通過觸摸屏進行設置。還會顯示放電狀態（RF入反射）。

CP-Plasner®是一款利用13.56MHz高頻率的等離子體產生裝置。主要領域包括電子顯微鏡等表面觀察技術。這是為了去除附著在分析裝置真空容器內壁上的有機類污染物。

兩項利技術帶來穩定與安心。

采用了已獲得利的氣體流量調節振動器和等離子體點火方法。
在清潔過程中，真空容器內的壓力不會發生波動。
我們會與客戶協商所需處理的藥膜的工藝條件，并選擇最合適的流量調節振動器。

• 由于清潔過程中沒有壓力波動，因此可以生成穩定的等離子體，而RF反射量不會發生變化。

• 從清洗開始到結束均可通過一鍵操作實現。這里沒有任何復雜的操作。

• 清潔條件可通過觸摸屏進行設置。還會顯示放電狀態（RF入反射）。