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產品資料
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工業臭氧發生器監測高濃度臭氧環境測定裝置

產品名稱: 工業臭氧發生器監測高濃度臭氧環境測定裝置
產品型號:
產品特點: 工業臭氧發生器監測高濃度臭氧環境測定裝置
根據現有信息，日本Musashino Kikai（武藏野機械）確實生產采用紫外線吸收法的高濃度臭氧測定裝置，其核心特點如下：
檢測原理
基于臭氧對254nm紫外光的特異性吸收，符合朗伯-比爾定律（I=Io·e????），通過測量光強衰減計算濃度。
技術特性
高精度：檢測限可達ppb級，誤差≤±4%F.S.，響應時間≤5分鐘。
多環境適配：支持氣態/液態臭氧

工業臭氧發生器監測高濃度臭氧環境測定裝置 的詳細介紹

工業臭氧發生器監測高濃度臭氧環境測定裝置

工業臭氧發生器監測高濃度臭氧環境測定裝置

根據現有信息，日本Musashino Kikai（武藏野機械）確實生產采用紫外線吸收法的高濃度臭氧測定裝置，其核心特點如下：
  1. 檢測原理
    基于臭氧對254nm紫外光的特異性吸收，符合朗伯-比爾定律（I=Io·e????），通過測量光強衰減計算濃度。
  2. 技術特性
    • 高精度：檢測限可達ppb級，誤差≤±4%F.S.，響應時間≤5分鐘。
    • 多環境適配：支持氣態/液態臭氧檢測，具備溫度壓力補償功能。
    • 高濃度范圍：部分型號量程擴展至20mg/L（約10,000ppm），適用于工業臭氧發生器出口監測。
  3. 應用場景
    主要用于半導體、水處理等高濃度臭氧環境，需搭配動態校準儀（稀釋比1:100-1:1000）實現閉環控制。
  4. 市場對比
    類似產品如TH-2003H型分析儀量程0-500ppb，而Musashino Kikai側重高
根據現有信息，日本Musashino Kikai（武藏野機械）確實生產采用紫外線吸收法的高濃度臭氧測定裝置，其核心特點如下：
  1. 檢測原理
    基于臭氧對254nm紫外光的特異性吸收，符合朗伯-比爾定律（I=Io·e????），通過測量光強衰減計算濃度
    。
  2. 技術特性
    • 高精度：檢測限可達ppb級，誤差≤±4%F.S.，響應時間≤5分鐘
      。
    • 多環境適配：支持氣態/液態臭氧檢測，具備溫度壓力補償功能
      。
    • 高濃度范圍：部分型號量程擴展至20mg/L（約10,000ppm），適用于工業臭氧發生器出口監測
      。
  3. 應用場景
    主要用于半導體、水處理等高濃度臭氧環境，需搭配動態校準儀（稀釋比1:100-1:1000）實現閉環控制
    。
  4. 市場對比
    類似產品如TH-2003H型分析儀量程0-500ppb，而Musashino Kikai側重高


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